Por que o quarto desinfetado FABULOSO tem que controlar a umidade?

A umidade é uma condição de controle ambiental comum na operação das salas de limpeza. O valor de alvo da humidade relativa no quarto desinfetado do semicondutor é controlado para estar na escala de 30 a 50%, permitindo que o erro esteja dentro de uma escala estreita de ±1%, tal como uma área fotolitográfica - ou mesmo menor na área (DUV) de processamento distante ultravioleta. - Em outros lugares, você pode relaxar dentro a ±5%.

Porque a humidade relativa tem um número de fatores que podem contribuir ao desempenho total do quarto desinfetado, incluir:

crescimento bacteriano do ●;

● a escala do conforto que o pessoal sente na temperatura ambiente;

A carga estática do ● aparece;

corrosão do metal do ●;

Condensação do vapor de água do ●;

degradação do ● da litografia;

Absorção de água do ●.

As bactérias e outros contaminadores biológicos (molde, vírus, fungos, ácaros) podem ativamente multiplicar nos ambientes com humidade relativa acima de 60%. Alguma flora pode crescer quando a humidade relativa excede 30%. Quando a humidade relativa está entre 40% e 60%, os efeitos das bactérias e de infecções respiratórias podem ser minimizados.

A humidade relativa na escala de 40% a 60% é igualmente uma escala modesta em que os seres humanos sentem confortáveis. A umidade excessiva pode fazer povos sentir incômodo deprimido, quando a umidade abaixo de 30% puder fazer povos sentir secos, rachado, respiratório e incômodo emocional.

A umidade alta reduz realmente a acumulação de carga estática na superfície do quarto desinfetado - este é o resultado desejado. Uma mais baixa umidade é mais apropriada para a acumulação da carga e uma fonte potencialmente de danificação de descarga eletrostática. Quando a humidade relativa excede 50%, a carga estática começa a dissipar-se rapidamente, mas quando a humidade relativa é menos de 30%, pode persistir por muito tempo no isolador ou na superfície infundada.

A humidade relativa entre 35% e 40% pode ser um acordo satisfatório, e as salas de limpeza do semicondutor usam tipicamente controles adicionais para limitar a acumulação de carga estática.

A velocidade de muitas reações químicas, incluindo o processo da corrosão, aumentará como a humidade relativa aumenta. Todas as superfícies expostas ao ar que cerca o quarto desinfetado são cobertas rapidamente com pelo menos o um monolayer da água. Quando estas superfícies são compostas de um revestimento de metal fino que possa reagir com água, a umidade alta pode acelerar a reação. Felizmente, alguns metais, tais como o alumínio, podem formar um óxido protetor com água e impedir umas reações mais adicionais da oxidação; mas um outro caso, tal como o óxido de cobre, não é protetor, assim que em ambientes da umidade alta, as superfícies do cobre são mais susceptíveis à corrosão.

Além, em um ambiente alto da humidade relativa, o fotoresistente é expandido e agravado após o ciclo do cozimento devido à absorção da umidade. A adesão do fotoresistente pode igualmente negativamente ser afetada por uma humidade relativa mais alta; uma mais baixa humidade relativa (aproximadamente 30%) facilita a adesão do fotoresistente, mesmo sem a necessidade para um modificador polimérico.

A humidade relativa de controlo em um quarto desinfetado do semicondutor não é arbitrária. Contudo, como o tempo muda, é o melhor rever as razões e as fundações da terra comum, práticas geralmente aceitadas.

A umidade não pode ser particularmente visível para nosso conforto humano, mas tem frequentemente um grande impacto no processo de produção, especialmente onde a umidade é alta, e a umidade é frequentemente o controle o mais mau, que é porque no controle da temperatura e de umidade do quarto desinfetado, umidade é preferida.